電子元器件檢測的關鍵技術
破壞性物理分析(DPA)在電子元器件品質管控中扮演著至關重要的角色,其透過系統性的分解、檢驗和分析,揭露元件潛在的材料和製程瑕疵,進而確保其符合預期用途和規範。
DPA的應用範圍


DPA適用於所有電子元器件類型,包括積體電路、電阻器、電容器、電感元件和變壓器等。無論在生產過程中或終端應用前,DPA都可以廣泛運用,識別元件內部的潛在問題。
DPA的效益
DPA具有顯著的效益,包括:
- 改善半導體器件品質,降低不合格率。
- 準確檢測電子元器件的內部缺陷,降低品質風險。
- 提供改進依據,降低瑕疵發生頻率。
- 協助設計和生產流程提升,確保產品品質。
DPA與其他技術的區別
與著重於事後檢驗的質量一致性檢驗和失效分析不同,DPA專注於發現設計和生產過程中的瑕疵。它廣泛應用於生產過程中,監控並提升元器件的可靠性水平。
最近の業界動態
MLCC供應緊缺推動報價上揚
受到疫情影響,MLCC兩大原廠三星電機和TDK近期宣佈,高容MLCC供應緊張,將對其報價進行調整。
電阻市場漲勢持續
台廠國巨和華新科也陸續宣佈電阻市場漲價,國巨調漲15-25%,華新科上漲10-15%。
侵權查緝有成
深圳海關近期破獲一宗印刷電路板侵權案件,查獲侵犯UL公司「RU」商標專用權的產品達391500個。
電子顯微鏡技術
SEM/EDS (掃描電子顯微鏡 / 能量分散光譜儀)
掃描電子顯微鏡利用聚焦電子束掃描樣品表面,收集二次電子訊號產生影像。EDS結合使用,可提供元素成分分析,進一步瞭解材料特性。
FIB-SEM (雙束聚焦離子束-掃描電子顯微鏡)
除了掃描樣品表面,FIB-SEM還能使用離子束切割樣品,並於斷面進行電子束觀測和EDX成分分析。
DPA技術比較
檢測技術 | 優點 | 缺點 |
---|---|---|
掃描電子顯微鏡 (SEM) | 表面形貌高解析度 | 穿透深度有限 |
能量分散光譜儀 (EDS) | 元素成分分析 | 定量準確度受限 |
雙束聚焦離子束-掃描電子顯微鏡 (FIB-SEM) | 斷面分析 | 破壞性取樣 |
X射線照相 | 內部結構檢查 | 對高密度材料成像能力差 |
X射線熒光 (XRF) | 元素成分分析 | 穿透深度較低 |
光學顯微鏡 | 表面觀測 | 解析度有限 |
超聲波顯微鏡 | 內部探測 | 對複雜結構成像能力差 |
破壞性分析:改變產業格局的強大力量
破壞性分析是一種策略性思維框架,企業可以利用它來識別和評估新技術或商業模式的潛在影響,進而制定應對策略。破壞性分析旨在發現尚未被現有市場領導者掌握的機會,從而顛覆產業格局。
以下表格總結了破壞性分析的關鍵特徵:
- 技術產業:新技術(如人工智慧、區塊鏈)的影響
- 金融產業:金融科技的興起
- 醫療保健產業:遠距醫療和個人化醫療的發展
- 零售產業:電子商務和網路原生品牌
- 能源產業:再生能源和儲能技術的採用
破壞性分析的步驟
進行破壞性分析的步驟如下:
- 識別潛在的破壞者:研究新技術、商業模式和市場趨勢,以識別可能顛覆產業的潛在因素。
- 評估破壞潛力:分析破壞者的技術優勢、市場需求和競爭格局,以評估其長期影響。
- 制定應對策略:制定策略以適應或預防破壞,包括創新、投資和戰略合作。
- 監測和調整:持續監控破壞的進展並根據需要調整應對策略,以確保競爭力。
破壞性分析的優點
- 促進創新:破壞性分析鼓勵企業探索新的想法和解決方案。
- 優化資源分配:識別高潛力的機會,企業可以將資源投入到最有可能帶來回報的領域。
- 提升競爭優勢:通過提前應對破壞,企業可以保持競爭優勢並避免市場份額的喪失。
破壞性分析的挑戰
- 難以預測:破壞性分析並非一門精確的科學,預測新技術和商業模式的影響可能是具有挑戰性的。
- 風險投資:投資於破壞性創新涉及風險,因為其成功並非有保證。
- 現有資產的保護:企業可能對投資破壞性創新猶豫,因為這可能威脅到其現有資產。